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等离子抛光的机理涉及等离子体的产生、化学反应、物理剥离和表面重构等过程。通过利用等离子体的化学反应和物理作用,可以实现对材料表面的抛光、清洁和平整化,提高其和性能。该技术在半导体、光学、电子等领域得到广泛应用,用于提高材料的表面和精度。
等离子抛光
等离子抛光工艺是一种表面处理技术,通过利用等离子体的化学反应和高能粒子的作用,实现对材料表面的改性和光洁度提升。等离子抛光
等离子抛光在材料加工、半导体制造、光学设备和精密零件加工等领域具有广泛应用。它可以---材料表面的和性能,提高光洁度和平整度,使材料更适用于微电子、光学和精密工程应用。
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